荷兰光刻机是一种半导体制造设备，它的原理是将光线通过掩模板或掩膜上的微小图案映射到光敏材料表面，形成所需的图形。
在曝光后，光敏材料会经过化学反应，形成光刻图案。
荷兰光刻机具有高精度和高分辨率的特点，可以制造出微小的器件和电路。
它广泛应用于集成电路、显示器、光学元件、MEMS等领域。
具体型号如下：
NXE:3400C型类型为极紫外光euv光刻机、NXE:3400B型极紫外光euv光刻机、NXT:2000i型深紫外光duv光刻机、NXT:1980Di型深紫外光duv光刻机、NXT:1970Ci型深紫外光duv光刻机、NXT:1965Ci型深紫外光duv光刻机等型号。
大约1.5亿欧元。
荷兰阿斯麦尔公司的euv光刻机售价大约1.5亿欧元，不过要说明的是并没有5纳米光刻机，euv光刻机目前处于第一代，也就是13.5纳米极紫外光光源波长本身就是euv光刻机的精度，只不过台积电和三星通过技术使其能够加工出5nm芯片甚至更高制程。
荷兰阿斯麦尔euv光刻机非常昂贵，每台售价差不多1.5亿欧元。
荷兰阿斯麦尔公司的euv光刻机售价大约1.5亿欧元，不过要说明的是并没有5纳米光刻机，euv光刻机目前处于第一代，也就是13.5纳米极紫外光光源波长本身就是euv光刻机的精度，只不过台积电和三星通过技术使其能够加工出5nm芯片甚至更高制程。
荷兰阿斯麦尔euv光刻机非常昂贵，每台售价差不多1.5亿欧元。
